2008年9月12日
拝啓 貴社益々御清祥のことと御慶び申し上げます。 平素は格別のご高配を賜り、厚く御礼申し上げます。 さて、この度弊社新製品としてpH処理中和装置NMX-C10を開発致しました。 従来のpH処理中和装置に比べ処理機能を大きく改善し、よりコンパクトで、より高機能で、ランニングコストを大幅に低減させることが可能となりました。 処理性能をより一層ご理解いただくために下記日程にて現場を想定した実演会を実施いたします。